1.工艺特点: 半光亮电镀镍光亮剂工艺是专门为防腐蚀性能要求高的电镀件而设计,是双层镍或多层镍系统电镀中的半光亮镍底层。 镀层含硫量低于0.003%,半光亮镍层与光亮镍层电位差达120-145mv,耐蚀性较好; 镀层柔软性好,覆盖能力强,填平效果较佳; 光亮剂浓度高,消耗量小; 不含香豆素,分解产物少,镀液稳定,容易维护,降低了废水处理和活性碳处理的成本。. 2.镀液组成及操作条件: 镀液组成及工艺条件 适用范围 一般开缸用量 硫酸镍 240-300克/升 270克/升 氯化镍 45-55克/升 50克/升 硼酸 40-50克/升 45克/升 柔软剂 4-6毫升/升 5毫升/升 整平剂 0.4-0.8毫升/升 0.6毫升/升 稳定剂 0.4-0.8毫升/升 0.6毫升/升 半光亮镍湿润剂 1-2毫升/升 1.5毫升/升 温度 45-55℃ 50-55℃ PH值 4.0-4.8 4.3 电流密度 2-6安培/平方分米 4安培/平方分米 搅拌方式 空气或机械搅拌 空气或机械搅拌 过滤方式 连续循环过滤 连续循环过滤